[发明专利]一种莫桑石的制造方法在审

专利信息
申请号: 201810948597.0 申请日: 2018-08-20
公开(公告)号: CN109023528A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 孙月静 申请(专利权)人: 孙月静
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B1/10
代理公司: 北京华际知识产权代理有限公司 11676 代理人: 李浩
地址: 214000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种莫桑石的制造方法,包括以下步骤:选择合适的生长室,并将硅、碳和SiC晶种放入所述生长室中,所述碳是C粉末,粉末颗粒的平均直径大于10微米;所述硅为硅粉,所述硅粉颗粒的平均直径为100μm‑400μm;所述生长室加热至2000℃,然后在2000℃下将所述生长室内的空气抽出,并在所述生长室内填充惰性气体,所述惰性气体的压力范围为100mp‑1000mp;将所述硅和所述碳加热至合成温度,所述合成温度的范围为2000℃‑2500℃,使得发生硅与碳发生化学反应以形成SiC。该方法避免了现有技术中发生的碳粉末的流化,提高了生长的SiC单晶的质量。
搜索关键词: 生长室 惰性气体 生长 加热 合成 室内 化学反应 粉末颗粒 硅粉颗粒 碳粉末 单晶 放入 硅粉 晶种 流化 填充 制造 抽出
【主权项】:
1.一种莫桑石的制造方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、选择合适的生长室,并将硅、碳和SiC晶种放入所述生长室中,所述碳是C粉末,粉末颗粒的平均直径大于10微米;所述硅为硅粉,所述硅粉颗粒的平均直径为100μm‑400μm;S2、所述生长室加热至2000℃,然后在2000℃下将所述生长室内的空气抽出,并在所述生长室内填充惰性气体,所述惰性气体的压力范围为100mp‑1000mp;S3、将所述硅和所述碳加热至合成温度,所述合成温度的范围为2000℃‑2500℃,使得发生硅与碳发生化学反应以形成SiC。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于孙月静,未经孙月静许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810948597.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top