[发明专利]一种低介电常数聚酰亚胺薄膜及其制备方法在审
| 申请号： | 201810954522.3 | 申请日： | 2018-08-21 |
| 公开（公告）号： | CN109096758A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 周浪;赵子刚;陈玉净 | 申请（专利权）人： | 无锡创彩光学材料有限公司 |
| 主分类号： | C08L79/08 | 分类号： | C08L79/08;C08L51/08;C08J5/18;C08F283/12;C08F214/26;C08F210/06;C08G73/10 |
| 代理公司： | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 王闯;葛莉华 |
| 地址： | 214100 江苏省无*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及低介电常数聚酰亚胺薄膜及其制备方法，通过向聚酰胺酸溶液中加入15‑25％的氟硅分散液制备低介电常数聚酰亚胺薄膜，所述氟硅分散液：(1)向密闭反应釜中加入去离子水、月桂基硫酸钠、过硫酸铵、桥基梯形聚硅氧烷，在70～80℃下通入四氟乙烯与丙烯混合气体至反应釜内压力为2.5MPaG，300rpm搅拌进行聚合反应；(2)通入四氟乙烯与丙烯的混合气体使釜内压力为2.49～2.51MPaG；(3)降温至10℃停止聚合，得到含氟桥基梯形聚硅氧烷水性乳液；(4)在60～70℃下，向所述水性乳液中滴加二甲基乙酰胺，减压脱水。本发明聚酰亚胺薄膜在保持优异的粘接性及力学性能同时，具有低介电常数。 | ||
| 搜索关键词： | 聚酰亚胺薄膜 低介电常数 聚硅氧烷 桥基梯形 水性乳液 四氟乙烯 分散液 氟硅 制备 聚酰亚胺薄膜在 制备低介电常数 丙烯混合气体 二甲基乙酰胺 反应釜内压力 聚酰胺酸溶液 月桂基硫酸钠 密闭反应釜 釜内压力 过硫酸铵 混合气体 减压脱水 聚合反应 力学性能 去离子水 丙烯 粘接性 滴加 含氟 聚合 | ||
【主权项】：
1.一种低介电常数聚酰亚胺薄膜的制备方法，其特征在于，其是向聚酰胺酸溶液中加入占其重量百分比为15～25％的氟硅分散液进行改性，进一步经流涎制备低介电常数聚酰亚胺薄膜，所述氟硅分散液由下述方法制得：(1)向密闭反应釜中加入去离子水、月桂基硫酸钠、过硫酸铵、桥基梯形聚硅氧烷，在70～80℃下通入四氟乙烯与丙烯的混合气体至反应釜内压力为2.5MPaG，搅拌进行聚合反应，其中所述去离子水、月桂基硫酸钠、过硫酸铵、桥基梯形聚硅氧烷的重量比为1700～1800：13～15：4～5：145～155；(2)随着反应进行，反应釜中压力下降，继续通入四氟乙烯与丙烯的混合气体保持反应釜内压力为2.49～2.51MPaG；(3)反应结束后，降温至10℃停止聚合，得到含氟桥基梯形聚硅氧烷水性乳液；(4)在60～70℃下，向所述含氟桥基梯形聚硅氧烷水性乳液中滴加溶剂，减压脱水至温度上升，即制得氟硅分散液；其中，桥基梯形聚硅氧烷结构式为：![]()
其中，x为1～5的整数，y为1～200的整数。
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