[发明专利]一种横向锗探测器结构及制备方法有效

专利信息
申请号: 201810954972.2 申请日: 2018-08-21
公开(公告)号: CN109119500B 公开(公告)日: 2019-12-06
发明(设计)人: 陈昌华;魏江镔;仇超;柏艳飞;甘甫烷 申请(专利权)人: 南通赛勒光电科技有限公司
主分类号: H01L31/0288 分类号: H01L31/0288;H01L31/0352;H01L31/103;H01L31/18
代理公司: 31272 上海申新律师事务所 代理人: 俞涤炯<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 226000 江苏省南通市苏通*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种横向锗探测器结构,其中,横向锗探测器结构为横向光电二极管结构,包括硅衬底;硅氧化层沉积于硅衬底的上表面;硅氧化层上包括顶层硅,顶层硅的一侧形成第一掺杂区域,于第一掺杂区域的上表面形成第一电极;顶层硅的上表面形成耦合层,于耦合层背向第一电极的一侧形成延伸部,于延伸部形成第二掺杂区域,于第二掺杂区域形成第二电极;氮化硅波导为锥形结构,形成于多晶硅层的上方。有益效果:通过改造锗层结构,对顶层硅及锗层分别进行掺杂,增强了氮化硅波导耦合至锗探测器的耦合效率,实现了光复用器、光解复用器与锗探测器的有效集成,还应用于高光功率及高带宽的光电探测领域中。
搜索关键词: 掺杂区域 顶层硅 探测器结构 上表面 第一电极 硅氧化层 氮化硅 硅衬底 延伸部 耦合层 探测器 锗层 横向光电二极管 光解复用器 波导耦合 第二电极 多晶硅层 高光功率 光电探测 光复用器 有效集成 锥形结构 耦合效率 高带宽 波导 沉积 制备 掺杂 应用 改造
【主权项】:
1.一种横向锗探测器结构,其特征在于,所述横向锗探测器结构为横向光电二极管结构,具体包括:/n一硅衬底;/n一硅氧化层,沉积于所述硅衬底的上表面;所述硅氧化层上包括:/n一顶层硅,所述顶层硅的一侧形成一第一掺杂区域,于所述第一掺杂区域的上表面形成一第一电极,所述第一电极向上延伸出所述硅氧化层;/n一耦合层,形成于所述顶层硅的上表面,所述耦合层背向所述第一电极的一侧形成一延伸部,于所述延伸部形成一第二掺杂区域,于所述第二掺杂区域形成一第二电极,所述第二电极向上延伸出所述硅氧化层;/n所述耦合层包括一第一层与一第二层,所述第二层形成于所述第一层的上表面,所述第一层为锗层;/n一氮化硅波导,形成于所述耦合层的上方,所述氮化硅波导为锥形结构,所述氮化硅波导具有一第一端与一第二端,所述第一端小于所述第二端,所述氮化硅波导用于接收光信号,并将所述光信号耦合至所述耦合层,所述锗层用以接收所述光信号,并将所述光信号转换为电信号。/n
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