[发明专利]一种横向锗探测器结构及制备方法有效
申请号: | 201810954972.2 | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109119500B | 公开(公告)日: | 2019-12-06 |
发明(设计)人: | 陈昌华;魏江镔;仇超;柏艳飞;甘甫烷 | 申请(专利权)人: | 南通赛勒光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0288 | 分类号: | H01L31/0288;H01L31/0352;H01L31/103;H01L31/18 |
代理公司: | 31272 上海申新律师事务所 | 代理人: | 俞涤炯<国际申请>=<国际公布>=<进入 |
地址: | 226000 江苏省南通市苏通*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开一种横向锗探测器结构,其中,横向锗探测器结构为横向光电二极管结构,包括硅衬底;硅氧化层沉积于硅衬底的上表面;硅氧化层上包括顶层硅,顶层硅的一侧形成第一掺杂区域,于第一掺杂区域的上表面形成第一电极;顶层硅的上表面形成耦合层,于耦合层背向第一电极的一侧形成延伸部,于延伸部形成第二掺杂区域,于第二掺杂区域形成第二电极;氮化硅波导为锥形结构,形成于多晶硅层的上方。有益效果:通过改造锗层结构,对顶层硅及锗层分别进行掺杂,增强了氮化硅波导耦合至锗探测器的耦合效率,实现了光复用器、光解复用器与锗探测器的有效集成,还应用于高光功率及高带宽的光电探测领域中。 | ||
搜索关键词: | 掺杂区域 顶层硅 探测器结构 上表面 第一电极 硅氧化层 氮化硅 硅衬底 延伸部 耦合层 探测器 锗层 横向光电二极管 光解复用器 波导耦合 第二电极 多晶硅层 高光功率 光电探测 光复用器 有效集成 锥形结构 耦合效率 高带宽 波导 沉积 制备 掺杂 应用 改造 | ||
【主权项】:
1.一种横向锗探测器结构,其特征在于,所述横向锗探测器结构为横向光电二极管结构,具体包括:/n一硅衬底;/n一硅氧化层,沉积于所述硅衬底的上表面;所述硅氧化层上包括:/n一顶层硅,所述顶层硅的一侧形成一第一掺杂区域,于所述第一掺杂区域的上表面形成一第一电极,所述第一电极向上延伸出所述硅氧化层;/n一耦合层,形成于所述顶层硅的上表面,所述耦合层背向所述第一电极的一侧形成一延伸部,于所述延伸部形成一第二掺杂区域,于所述第二掺杂区域形成一第二电极,所述第二电极向上延伸出所述硅氧化层;/n所述耦合层包括一第一层与一第二层,所述第二层形成于所述第一层的上表面,所述第一层为锗层;/n一氮化硅波导,形成于所述耦合层的上方,所述氮化硅波导为锥形结构,所述氮化硅波导具有一第一端与一第二端,所述第一端小于所述第二端,所述氮化硅波导用于接收光信号,并将所述光信号耦合至所述耦合层,所述锗层用以接收所述光信号,并将所述光信号转换为电信号。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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