[发明专利]一种基于光调控的有机场效应多阶晶体管存储器及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810955297.5 申请日: 2018-08-21
公开(公告)号: CN109326713A 公开(公告)日: 2019-02-12
发明(设计)人: 李焕群;周楠;魏贤虎;王睿 申请(专利权)人: 中通服咨询设计研究院有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/10;H01L51/56;H01L51/54
代理公司: 江苏圣典律师事务所 32237 代理人: 胡建华
地址: 210019 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种基于光调控的有机场效应多阶晶体管存储器,它从下往上依次包括衬底、栅绝缘层、量子点掺杂薄膜层、光敏半导体层以及在光敏半导体层上形成的源漏电极;所述量子点掺杂薄膜层为掺杂有半导体纳米晶的聚合物薄膜。本发明通过简单的工艺手段改进器件的存储性能及光敏性能,使其存储容量、开关速度和光响应能力得到很大提升,实现多阶存储;并且降低了器件制备成本,便于推广、应用。
搜索关键词: 光敏半导体层 晶体管存储器 有机场效应 掺杂 薄膜层 光调控 量子点 多阶 半导体纳米晶 聚合物薄膜 存储容量 存储性能 多阶存储 工艺手段 器件制备 源漏电极 栅绝缘层 光响应 衬底 光敏 制备 应用 改进
【主权项】:
1.一种基于光调控的有机场效应多阶晶体管存储器,其特征在于,它从下往上依次包括衬底(1)、栅绝缘层(2)、量子点掺杂薄膜层(3)、光敏半导体层(4)以及在光敏半导体层(4)上形成的源漏电极(5);所述量子点掺杂薄膜层(3)为掺杂有半导体纳米晶的聚合物薄膜。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中通服咨询设计研究院有限公司,未经中通服咨询设计研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810955297.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top