[发明专利]一种横向锗探测器结构及制备方法有效
申请号: | 201810956083.X | 申请日: | 2018-08-21 |
公开(公告)号: | CN109103283B | 公开(公告)日: | 2020-06-09 |
发明(设计)人: | 陈昌华;魏江镔;仇超;柏艳飞;甘甫烷 | 申请(专利权)人: | 南通赛勒光电科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/0328 | 分类号: | H01L31/0328;H01L31/102;H01L31/18 |
代理公司: | 上海申新律师事务所 31272 | 代理人: | 俞涤炯 |
地址: | 226000 江苏省南通市苏通*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明包括一种横向锗探测器结构及制备方法,其中,横向锗探测器结构为横向光电二极管,包括硅衬底;硅氧化层沉积于硅衬底的上表面;硅氧化层包括顶层硅;锗层形成于顶层硅的上表面,锗层包括锗层主体,以及由锗层主体分别向两侧延伸的第一延伸部与第二延伸部,于第一延伸部与第二延伸部分别形成第一掺杂区域与第二掺杂区域,于第一掺杂区域与第二掺杂区域的上表面分别形成第一电极与第二电极;氮化硅波导形成于锗层的上方,氮化硅波导为锥形结构。有益效果:通过改造锗层结构,有效增强氮化硅波导耦合至锗探测器的耦合效率,可以实现光复用器与光解复用器与锗探测器的有效集成,还可以应用于高光功率及高带宽的光电探测领域中。 | ||
搜索关键词: | 一种 横向 探测器 结构 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种横向锗探测器结构,其特征在于,所述横向锗探测器结构为横向光电二极管,具体包括:一硅衬底;一硅氧化层,沉积于所述硅衬底的上表面;所述硅氧化层上包括:一顶层硅;一锗层,形成于所述顶层硅的上表面,所述锗层包括锗层主体,以及由所述锗层主体分别向两侧延伸的第一延伸部与第二延伸部,于所述第一延伸部与所述第二延伸部分别形成一第一掺杂区域与一第二掺杂区域,于所述第一掺杂区域与所述第二掺杂区域的上表面分别形成一第一电极与一第二电极,所述第一电极与所述第二电极分别向上延伸出所述硅氧化层;一氮化硅波导,形成于所述锗层的上方,所述氮化硅波导为锥形结构,所述氮化硅波导具有一第一端与一第二端,所述第一端小于所述第二端,所述氮化硅波导用于接收光信号,并将所述光信号耦合至所述锗层,所述锗层用以接收所述光信号,并将所述光信号转换为电信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南通赛勒光电科技有限公司,未经南通赛勒光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810956083.X/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的