[发明专利]渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法有效
申请号: | 201810959840.9 | 申请日: | 2018-08-22 |
公开(公告)号: | CN109149368B | 公开(公告)日: | 2021-12-14 |
发明(设计)人: | 张一;牛智川;张宇;徐应强;杨成奥;谢圣文;邵福会;尚金铭 | 申请(专利权)人: | 中国科学院半导体研究所 |
主分类号: | H01S5/343 | 分类号: | H01S5/343 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 任岩 |
地址: | 100083 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种渐变掺杂宽波导带间级联激光器及其制备方法,其中,渐变掺杂宽波导带间级联激光器,包括:衬底;以及自下而上依次外延的下波导包层、下分别限制层、级联区、上分别限制层、上波导包层、以及上接触层;其中,下分别限制层和上分别限制层的厚度为百纳米到微米量级,并且下分别限制层和上分别限制层都是渐变掺杂,使得下分别限制层和上分别限制层的两端掺杂浓度相对较高,中心区域掺杂浓度相对较低。该渐变掺杂宽波导带间级联激光器有效提高了光学限制因子,增加光学增益;有效的降低异质结面的电压降,提高光电效率,减小自由载流子吸收,减小器件的损耗;并能降低工作电压,提高工作效率。 | ||
搜索关键词: | 渐变 掺杂 波导 级联 激光器 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种渐变掺杂宽波导带间级联激光器,包括:衬底;以及自下而上依次外延的下波导包层、下分别限制层、级联区、上分别限制层、上波导包层、以及上接触层;其中,下分别限制层和上分别限制层的厚度为百纳米到微米量级,并且下分别限制层和上分别限制层都是渐变掺杂,使得下分别限制层和上分别限制层的两端掺杂浓度相对较高,中心区域掺杂浓度相对较低。
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