[发明专利]散斑结构光投影模组及3D深度相机有效
| 申请号： | 201810961902.X | 申请日： | 2018-08-22 |
| 公开（公告）号： | CN108957911B | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 高乾坤;盛赞;郑少林;李骊;王行;周晓军;杨淼;李朔 | 申请（专利权）人： | 北京华捷艾米科技有限公司 |
| 主分类号： | G03B15/02 | 分类号： | G03B15/02;G02B5/32;G03F7/00 |
| 代理公司： | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人： | 楼高潮 |
| 地址： | 100193 北京市海淀*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及3D形貌测量领域。本发明实施例提供一种散斑结构光投影模组及3D深度相机，其中散斑结构光投影模组包括：阵列光源，用于发射对应第一斑点图案的激光光束；准直透镜，用于将所述激光光束调制为对应第一斑点图案的准直光束；全息光学元件，用于调制扩展所述准直光束以形成第二斑点图案，并将所述第二斑点图案投射至待测场景物体上，其中所述全息光学元件是通过激光干涉曝光加工制作而成的。由此，采用了通过激光干涉曝光加工而成的全息光学元件，无鬼线干扰问题并减少了杂散背景光；另外，相比于刻蚀工艺制作，激光干涉制作能够更加高效且成本更低。 | ||
| 搜索关键词： | 结构 投影 模组 深度 相机 | ||
【主权项】：
1.一种散斑结构光投影模组，包括：阵列光源，用于发射对应第一斑点图案的激光光束；准直透镜，用于将所述激光光束调制为对应第一斑点图案的准直光束；全息光学元件，用于调制扩展所述准直光束以形成第二斑点图案，并将所述第二斑点图案投射至待测场景物体上，其中所述全息光学元件是通过激光干涉曝光加工制作而成的。
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