[发明专利]光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法在审
| 申请号： | 201810964806.0 | 申请日： | 2018-08-23 |
| 公开（公告）号： | CN108802056A | 公开（公告）日： | 2018-11-13 |
| 发明（设计）人： | 李杰;许乔;李亚国;巴荣声;张霖;周信达;郑垠波;丁磊;柴立群 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G01N21/01 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 621900*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 一种光学元件位相型缺陷测量装置及检测方法。该装置包括：光源，沿光源的光束传播方向依次放置样品台、显微放大系统、分光系统和探测系统。本发明具有装置简单、成本低、操作方便等优点，可测量光学元件位相型缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 光学元件 位相型 缺陷测量装置 光源 显微放大系统 分光系统 光束传播 探测系统 可测量 样品台 检测 | ||
【主权项】：
1.一种光学元件位相型缺陷测量装置，其特征在于包括激光光源(1)，沿该激光光源(1)光束的传播方向依次是样品台(2)、显微放大系统(3)、分光系统(4)和探测系统(5)；所述的激光光源(1)提供准平行光；所述的样品台(2)供待测光学元件(6)置放及其位置及角度调节，使所述的待测光学元件(6)处于所述的显微放大系统(3)的物方视场上；所述的显微放大系统(3)用于放大待测光学元件(6)的测试区域；所述的分光系统(4)包括光栅(401)，所述的光栅(401)置于光栅位移控制台(402)上并处于所述的显微放大系统(3)和探测器(5)之间；所述的探测系统(5)包括探测器(501)，所述的探测器(501)置于探测器位移控制台(502)上并处于所述的分光系统(4)后方。
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