[发明专利]用于富硒离子注入的供应源和方法有效
| 申请号： | 201810967214.4 | 申请日： | 2014-05-01 |
| 公开（公告）号： | CN108796446B | 公开（公告）日： | 2021-08-06 |
| 发明（设计）人： | D.C.海德曼;A.K.辛哈;L.A.布朗 | 申请（专利权）人： | 普莱克斯技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/16 | 分类号： | C23C14/16;C23C14/48;H01J37/317;H01L21/265 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张慧;李建新 |
| 地址： | 美国康*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种用于离子注入包含同位素富集硒的源材料的新颖方法。选择所述源材料并富集硒的特定质量同位素，藉此所述富集高于天然丰度水平。本发明的方法允许降低气体消耗以及减少废物。优选从低于大气压的储存和递送设备储存并递送所述源材料，以增加在所述硒离子注入工艺期间的安全性和可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 注入 供应 方法 | ||
【主权项】：
1.基于硒的掺杂剂气体组合物的供应源，包括：包含气态硒掺杂剂的气体源材料，其富集其天然存在质量同位素之一；以及递送和储存设备，其用于在加压状态将包含富集硒掺杂剂的气体源材料保持在所述设备的内部容积内，所述递送设备与排放流通路流体连通，其中响应于沿着所述排放流通路获得的低于大气压条件，所述递送设备被开动以允许所述包含富集硒掺杂剂的气体源材料从所述设备的内部容积的受控流出。
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