[发明专利]锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法

摘要

本发明为锍化合物、抗蚀剂组合物和图案化方法。包含特定结构的锍化合物作为PAG的抗蚀剂组合物具有优异的光刻性能因素，如最小的缺陷、高感光度、改善的LWR和CDU，并且是用于精确微图案化的相当有效的抗蚀剂材料。

主权项

1.具有式(1)的锍化合物:Z‑X‑L1‑SO3‑  (1)其中，L1为直链、支链或环状C1‑C20二价烃基，其可以含有含杂原子的结构部分，X为二价连接基，和Z为具有式(1A)、(1B)或(1C)的锍阳离子结构的基团：其中，虚线表示到X的价键，A为单键、亚甲基、羰基、亚磺酰基、磺酰基、氨基、醚键、硫醚键、酯键、碳酸酯键、氨基甲酸酯键或磺酸酯键，R1a至R1c各自独立地为直链、支链或环状C1‑C20一价烃基，其可以含有含杂原子的结构部分，R1a至R1c的至少一个为以下所示的式(1‑1)的基团，条件是，当包括至少两个R1a时，它们中的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，当包括至少两个R1b时，它们中的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，和当包括至少两个R1c时，它们的两个可以键合在一起以与它们所连接的苯环上的碳原子形成环，m1、m2和m3为以下范围的整数：0≤m1≤5，0≤m2≤5，0≤m3≤4，并且m1+m2+m3≥1，n1、n2和n3为以下范围的整数：0≤n1≤4，0≤n2≤4，0≤n3≤4，并且n1+n2+n3≥1，k1、k2和k3为以下范围的整数：0≤k1≤5，0≤k2≤4，0≤k3≤3，并且k1+k2+k3≥1，其中，L2为直链、支链或环状C1‑C20二价烃基，其可以含有含杂原子的结构部分，或Rf1和Rf2各自独立地为氢，直链、支链或环状C1‑C20烷基，氟或具有至少一个氟原子的直链、支链或环状C1‑C20氟代烷基，Rf1和Rf2的至少一个为氟或氟代烷基，虚线表示价键。