[发明专利]一种处理阴离子染料污水用羟基氧化铁纳米片的制备方法及应用

摘要

一种处理阴离子染料污水用羟基氧化铁纳米片的制备方法及应用，通过向特定铁盐水溶液中滴加硼氢化钠溶液，可控液相还原生成前躯体，再将所得前躯体由无水乙醇后处理及在空气中干燥氧化后可得到羟基氧化铁纳米片；所制备的羟基氧化铁纳米片为非晶态结构，片层厚度为1‑4nm，具有较大的比表面积，对废水中偶氮类染料有较强的吸附以及光催化降解能力，由此可实现对此类废水的高效除污。与现有技术相比，本发明合成方法简单，成本低廉，便于规模化生产；合成体系中无需添加表面活性剂，溶剂为水，绿色环保无毒无害；所得样品物理化学结构及特性突出，用于染料废水除污效果显著。

主权项

1.一种处理阴离子染料污水用羟基氧化铁纳米片的制备方法，其特征是按如下步骤：（1）将九水合硝酸铁配制为铁离子浓度为0.01‑2.0 mol/L的铁盐水溶液，通入氮气保护，放置在冰水浴中，机械剧烈搅拌；（2）配制好还原剂混合水溶液，其中还原剂为硼氢化钠或硼氢化钾，优选为硼氢化钠，浓度对应于铁离子摩尔比控制在3‑6，另加入适量氢氧化钠使溶液PH值保持为12‑14；（3）将还原剂混合水溶液用蠕动泵控制速度滴加至铁盐水溶液中，滴加时间为1‑2 h，滴加完毕后继续还原反应2h得到前驱体；（4）将还原得到的前躯体浸没入无水乙醇中，于室温下以200‑800 r/min的速度搅拌6‑12 h，而后滤出固体样品在空气中自然干燥氧化可得非晶态、厚度为1‑4nm的羟基氧化铁纳米片。