[发明专利]一种二氧化硅@P-A-β-CD/NIPAM吸附介质的制备方法及其应用有效
申请号: | 201810978271.2 | 申请日: | 2018-08-27 |
公开(公告)号: | CN109225165B | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 郭治安;赵景婵;刘玉锋;陈晓梅 | 申请(专利权)人: | 西北大学 |
主分类号: | B01J20/26 | 分类号: | B01J20/26;B01J20/28;B01J20/30;B01D15/08;C08F292/00;C08F220/54;C08F251/00 |
代理公司: | 西安亿诺专利代理有限公司 61220 | 代理人: | 熊雁 |
地址: | 710127 陕西省西安*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: |
本发明公开一种SiO |
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搜索关键词: | 一种 二氧化硅 cd nipam 吸附 介质 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
1.一种SiO2@P‑A‑β‑CD/NIPAM吸附介质的制备方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)合成丙烯酰环糊精功能单体;(2)用KH570对SiO2进行硅烷化,得到硅烷化的SiO2;(3)合成SiO2@P‑A‑β‑CD/NIPAM吸附介质:将0.3‑0.8g硅烷化的SiO2分散在20mL干燥的DMF中,加入20‑30mg偶氮二异丁腈,在N2氛围中,60‑80℃的条件下,向其中逐滴加入1‑6mmoL异丙基丙烯酰胺和浓度为0.05moL/L的丙烯酰环糊精功能单体的DMF溶液20mL,加入完毕后,搅拌24‑48h,然后离心,将离心得到的沉淀用蒸馏水和甲醇交替洗涤5次,将沉淀在50℃真空干燥2天,即得到SiO2@P‑A‑β‑CD/NIPAM吸附介质。
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