[发明专利]炉管设备及其清洗方法在审
| 申请号： | 201810986610.1 | 申请日： | 2018-08-28 |
| 公开（公告）号： | CN109037114A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 喻泽锋;周冬成;吴宗祐;林宗贤 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 武振华;吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种炉管设备及其清洗方法，所述炉管设备包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。本发明方案可以有效地降低清洗不足或过清洗的可能性。 | ||
| 搜索关键词： | 石英管 清洗 炉管 发射传感器 光电传感器 接收传感器 晶舟 匹配 加热腔室 加热腔 有效地 腔室 室内 | ||
【主权项】：
1.一种炉管设备，其特征在于，包括：加热腔室；石英管，所述石英管位于所述加热腔室内，且所述石英管内具有用于放置晶舟的晶舟腔室；一组或多组光电传感器，每组光电传感器包括相互匹配的发射传感器和接收传感器，在工作状态下，所述接收传感器适于透过所述石英管接收匹配的发射传感器的光线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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