[发明专利]光源组件和微全分析系统有效
申请号: | 201810988118.8 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN108802038B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 王方舟;孟宪芹;王维;谭纪风;高健;孟宪东;梁蓬霞;凌秋雨;陈小川 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G01N21/85 | 分类号: | G01N21/85;G01N21/17 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 姜春咸;陈源 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种光源组件,用于微全分析系统中,所述光源组件包括光源和牛眼准直结构,所述牛眼准直结构设置在所述光源的出光侧,用于对所述光源发射的光线进行准直;所述牛眼准直结构包括金属层,所述金属层上设置有亚波长孔和环绕该亚波长孔的多个环形凹槽,多个环形凹槽沿所述亚波长孔的径向依次设置。相应地,本发明还提供一种微全分析系统。本发明的光源组件的结构更轻薄,从而使得微全分析系统的整体结构更轻薄,并且,采用所述光源组件的微全分析系统的检测结果更加准确。 | ||
搜索关键词: | 光源 组件 分析 系统 | ||
【主权项】:
1.一种光源组件,用于微全分析系统中,其特征在于,所述光源组件包括光源和牛眼准直结构,所述牛眼准直结构设置在所述光源的出光侧,用于对所述光源发射的光线进行准直;所述牛眼准直结构包括金属层,所述金属层上设置有亚波长孔和环绕该亚波长孔的多个环形凹槽,多个环形凹槽沿所述亚波长孔的径向依次设置。
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