[发明专利]衬底处理设备有效
| 申请号： | 201810994464.7 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109427533B | 公开（公告）日： | 2021-09-07 |
| 发明（设计）人： | 严基喆;张显秀;李政镐;韩镕圭 | 申请（专利权）人： | ASM知识产权私人控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 马爽;臧建明 |
| 地址： | 荷兰阿尔梅勒佛斯*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种等离子体供应单元及一种包括所述等离子体供应单元的衬底处理设备，所述等离子体供应单元包括：第一导电部分；第二导电部分，其至少一部分延伸成与所述第一导电部分交叠；以及接地屏蔽物，位于所述第一导电部分与所述第二导电部分之间。 | ||
| 搜索关键词： | 衬底 处理 设备 | ||
【主权项】：
1.一种衬底处理设备，其特征在于，包括：反应器；气体供应单元，位于所述反应器中；以及等离子体供应单元，电连接到所述气体供应单元，其中所述等离子体供应单元包括：第一导电部分；第二导电部分，延伸成与所述第一导电部分的至少一部分交叠；以及接地屏蔽物，位于所述第一导电部分与所述第二导电部分之间。
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