[发明专利]一种掩膜版有效

专利信息
申请号: 201810994585.1 申请日: 2018-08-27
公开(公告)号: CN109062001B 公开(公告)日: 2022-04-08
发明(设计)人: 杜建华;强朝辉;王治;关峰;高宇鹏;吕杨;任庆荣;李超;王鑫 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: G03F1/66 分类号: G03F1/66;G03F1/42
代理公司: 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 代理人: 莎日娜
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供了一种掩膜版,涉及加工工艺技术领域。其中,所述掩膜版包括掩膜版盒,以及嵌套在掩膜版盒中的准直透镜组合板。其中,掩膜版盒包括对盒设置的掩膜图案板和第一准直透镜板,第一准直透镜板上的光线准直区域与掩膜图案板上的透光区域位置对应;准直透镜组合板上的光线准直区域可以大于掩膜图案板上的透光区域。在本发明实施例中,掩膜图案板上的透光区域与特定薄膜晶体管的图案对应,准直透镜组合板上的光线准直区域大于掩膜图案板上的透光区域,从而准直透镜组合板可以与不同掩膜图案的掩膜版盒嵌套组合,形成不同的掩膜版,进而能够对不同图案的薄膜晶体管的a‑Si进行区域化激光退火处理,提高了区域化激光退火掩膜版的通用性。
搜索关键词: 一种 掩膜版
【主权项】:
1.一种掩膜版,其特征在于,包括掩膜版盒,以及嵌套在所述掩膜版盒中的准直透镜组合板;所述掩膜版盒包括对盒设置的掩膜图案板和第一准直透镜板;所述第一准直透镜板上的光线准直区域与所述掩膜图案板上的透光区域位置对应;所述准直透镜组合板上的光线准直区域大于所述掩膜图案板上的透光区域。
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