[发明专利]一种用于薄金属的高温薄膜沉积的加热装置有效
申请号: | 201810995176.3 | 申请日: | 2018-08-29 |
公开(公告)号: | CN109097756B | 公开(公告)日: | 2020-10-23 |
发明(设计)人: | 陶伯万;徐一鲡;赵睿鹏;苟继涛;陈然;贺冠园 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 闫树平 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | 本发明属于薄膜制备技术领域,具体为一种用于薄金属的高温薄膜沉积的加热装置。本发明重新设计了电极组单元;金属基带经过N个特殊设定的导电金属棒,被其支撑并与其良好接触,且导电金属棒不随金属基带的移动而滚动。导电金属棒与金属基带成线性接触导电,并对金属基带起支撑作用使其不发生形变,避免产生打火现象,保证了薄膜的后期应用。本发明适用于不同宽度厚度的单面金属基带的加热;并且升温速率高,温度分布均匀,能效高,同时可实现多层薄膜的连续制备。这些优势对于薄膜的工业化制备尤为重要,可以提高制备薄膜的质量,并降低成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 金属 高温 薄膜 沉积 加热 装置 | ||
【主权项】:
1.一种用于薄金属的高温薄膜沉积的加热装置,包括安装在真空腔体中的正负电极组单元、薄膜生长区、外接电流源和两个卷绕盘,其特征在于:待镀膜的金属基带从一个卷绕盘上牵引至一个电极组单元,经过薄膜生长区镀膜后,牵引至另一个电极组单元上,最终盘绕在另一个卷绕盘上,外接电源提供电极组单元的加热电流;所述电极组单元由两个转动轮、导电金属棒、导电金属棒固定装置和支撑架组成,对金属基带进行加热;其加热方式的机理是:加热电流通过导电金属棒从基带与其接触处导入到金属基带内部,并在位于薄膜沉积区中的金属基带上流动,因基带自身电阻产生的焦耳热达到薄膜生长所需的温度,同时通过另一相同结构的电极组流出,形成一个完整的电流通路;所述转动轮表面光滑,与金属基带之间没有相对摩擦,轴心绝缘,用于支撑金属基带,一个与卷绕盘构成金属基带的通道,另一个分别与导电金属棒和薄膜生长区构成金属基带的通道;其在支撑架上位置可调,以实现金属基带与导电金属棒间的接触力调整;所述导电金属棒与外接电源连接,支撑稳固金属基带,并与转动轮之间构成金属基带的通道;N个导电金属棒平行等距的固定在导电金属棒固定装置上,且导电金属棒的同侧端面在导电金属棒固定装置上处于同一弧线上,导电金属棒与导电金属棒固定装置之间绝缘,N≥5;每根导电金属棒与外部连接一个电阻单元构成一个电极单元,各电极单元通过电流分配电路形成电连接,电流分配电路为串联电阻;工作时,金属基带与N个导电金属棒构成的弧面直接贴合接触,导电金属棒不随金属基带的移动而滚动;所述支撑架用于安装导电金属棒固定装置和两个转动轮,且支撑架与导电金属棒和转动轮相互之间均绝缘。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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