[发明专利]一种可控周期和方向的干涉光刻系统

摘要

本发明公开了一种可控周期和方向的干涉光刻系统，光源的光被第一反射镜反射后经扩束滤波准直模块成平行光束，光束经第二、第三反射镜两次反射后传播方向垂直向下，然后被分束镜分成两束等振幅的相干光束。反射光束经第四、第五、第六反射镜三次反射，透射光束经第七、第八反射镜两次反射，最终在基片上会聚并发生干涉。位于基片上方位置的掩模板紧贴着基片，基片放置在工件台上。通过横向移动第六、第八反射镜的位置并调节第六、第八反射镜的角度，使得在基片的z向高度不变的情况下，实现不同角度的干涉。计算机控制系统实现对第六、第八反射镜的水平移动和转动以及对工件台的精密控制。通过本发明可以制备不同周期的像素级阵列偏振光栅。

主权项

1.一种可控周期和方向的干涉光刻系统，其特征在于：包括激光器(1)、快门(2)、第一反射镜(3)、第二反射镜(7)、光阑(8)、第三反射镜(9)、分束镜(10)、第四反射镜(11)、第五反射镜(12)、第六反射镜(13)、第七反射镜(14)、第八反射镜(15)、掩模板(16)、基片(17)、工件台(18)和计算机控制系统(19)，激光器(1)被第一反射镜(3)反射后经扩束滤波准直模块准直成平行光束，光束经第二反射镜(7)、第三反射镜(9)两次反射后传播方向垂直向下，然后被分束镜(10)分成两束等振幅的相干光束；反射光束经第四反射镜(11)、第五反射镜(12)、第六反射镜(13)三次反射，透射光束经第七反射镜(14)、第八反射镜(15)两次反射，最终在基片(17)上实现不同角度的会聚并发生干涉；位于基片(17)上方位置的掩模板(16)紧贴着基片，基片放置在工件台(18)上，分束镜(10)和第四反射镜(11)、第五反射镜(12)、第六反射镜(13)、第七反射镜(14)、第八反射镜(15)可围绕垂直轴线转动，通过机械臂控制横向移动第六反射镜(13)、第八反射镜(15)的位置并调节第六反射镜(13)、第八反射镜(15)的角度，使得在基片(17)的z向高度不变的情况下，可实现不同周期不同方向的干涉条纹。