[发明专利]一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置有效
| 申请号： | 201810996408.7 | 申请日： | 2018-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109143791B | 公开（公告）日： | 2020-03-20 |
| 发明（设计）人： | 高国涵;范斌;李志炜;雷柏平;边疆;刘鑫 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/687 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置，包括真空泵、机架、挡板阀、支撑台限位器、真空腔体、掩膜支撑台、放气阀、真空计、顶压机构、密封门开合机构、密封门、薄膜支架、柔性薄膜、密封垫、光刻掩膜版。其中掩膜支撑台可承载光刻掩膜版与待贴附的薄膜移动进出真空腔体，光刻掩膜版与柔性薄膜分离并间隔密封垫，支撑台限位器将掩膜支撑台定位，密封门关闭，真空泵与真空计控制真空度，顶压机构作用使薄膜支架下降，实现柔性薄膜与掩膜版表面的密封垫紧密接触形成密闭空间，放气阀在密闭空间以外破坏真空引入压差，使该密闭空间压缩实现柔性薄膜与掩膜版表面紧密贴附，取出掩膜支撑台将掩膜版与柔性薄膜作为整体以待曝光。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 柔性 薄膜 衬底 接触 光刻 真空 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于柔性薄膜衬底接触式光刻的真空贴附装置，其特征在于，包括真空泵(1)、机架(2)、挡板阀(3)、支撑台限位器(4)、真空腔体(5)、掩膜支撑台(6)、放气阀(7)、真空计(8)、顶压机构(9)、密封门开合机构(10)、密封门(11)、薄膜支架(12)、柔性薄膜(13)、密封垫(14)、光刻掩膜版(15)；所述的机架(2)位于真空腔体(5)下方起支撑作用，真空泵(1)、真空计(8)、挡板阀(3)、放气阀(7)、顶压机构(9)与真空腔体(5)相连，密封门(11)连接密封门开合机构(10)，并且由密封门开合机构(10)控制密封门(11)开关，掩膜支撑台(6)可移动进出真空腔体(5)并由其内的支撑台限位器(4)定位，光刻掩膜版(15)由掩膜支撑台(6)下半部分掩膜板夹具(6B)支撑，密封垫(14)与光刻掩膜版(15)无缝接触，薄膜支架(12)与柔性薄膜(13)作为整体与掩膜支撑台(6)上半部分薄膜支架夹具(6A)相连，薄膜支架(12)处于顶压机构(9)的行程范围内。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院光电技术研究所，未经中国科学院光电技术研究所许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201810996408.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
