[发明专利]用二步法制备的具有二次锥角的光纤光镊探针在审

专利信息
申请号: 201810996799.2 申请日: 2018-08-29
公开(公告)号: CN109212667A 公开(公告)日: 2019-01-15
发明(设计)人: 刘子龙;张波;张闹;刘亚欣;唐禹 申请(专利权)人: 武汉理工大学
主分类号: G02B6/245 分类号: G02B6/245;G02B6/26
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 许美红
地址: 430070 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明公开了一种具二次锥角的光纤光镊探针的制备方法,包括以下步骤:(1)静态新月面腐蚀:将剥除了涂覆层的光纤静置在腐蚀液中一定时间,待光纤完全腐蚀,一次锥角探针成型;腐蚀液上方加有密度小于腐蚀液的封闭液;(2)过渡层腐蚀:封闭液和腐蚀酸的交界处形成过渡层,过渡层中沿竖直方向腐蚀速率呈梯度变化,光纤形成一次锥角后,继续静置一段时间,处于过渡层的一次锥角探针的尖端形成第二个锥角,二次锥角成型后,光纤快速从腐蚀液中提出。本发明用二步法得到的光纤探针具有双锥角,且二次锥角在较大范围内可控,在光捕获应用上可以大幅提高光纤光镊探针对微粒的捕获效率,而且重要的是可以实现微粒的非接触式捕获。
搜索关键词: 锥角 腐蚀液 过渡层 探针 光纤光 光纤 腐蚀 二步法 封闭液 制备 捕获 成型 非接触式 光纤探针 梯度变化 光捕获 交界处 面腐蚀 双锥角 涂覆层 可控 竖直 应用
【主权项】:
1.一种具二次锥角的光纤光镊探针的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)静态新月面腐蚀:将剥除了涂覆层的光纤静置在腐蚀液中一定时间,待光纤完全腐蚀,一次锥角探针成型;腐蚀液上方加有密度小于腐蚀液的封闭液;(2)过渡层腐蚀:封闭液和腐蚀酸的交界处形成过渡层,过渡层中沿竖直方向腐蚀速率呈梯度变化,光纤形成一次锥角后,继续静置一段时间,处于过渡层的一次锥角探针的尖端形成第二个锥角,二次锥角成型后,光纤快速从腐蚀液中提出。
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