[发明专利]含环氧基异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法有效
| 申请号： | 201810998756.8 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109422881B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 林久美子;丸山仁;近藤和纪;加藤英人 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | C08G77/388 | 分类号： | C08G77/388;G03F7/004;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 刘强 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供含环氧基的异氰脲酸酯改性有机硅树脂、光敏树脂组合物、光敏干膜、层叠体和图案形成方法。一种包含在分子中含有环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂的光敏树脂组合物，其易于形成具有高透明性、耐光性和耐热性的树脂涂层，适应微加工，并且对于光学器件的保护和封装应用而言是有用的。涂层可以以厚膜形式加工，以限定具有精细尺寸和垂直度的图案，并且变成固化涂层，该固化涂层具有改进的对基底、电子部件、半导体器件和电路板支撑件的粘附性、机械性能、电绝缘性和抗开裂性，且作为绝缘保护膜是可靠的。 | ||
| 搜索关键词： | 含环氧基异氰脲酸酯 改性 有机 硅树脂 光敏 树脂 组合 层叠 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
1.一种含环氧基的异氰脲酸酯改性的有机硅树脂，包含具有式(1)至(6)的重复单元：![]()
其中，R1‑R7各自独立地为氢或一价有机基团，R5‑R7中的至少一个为含环氧基的有机基团，a1、a2、b1、b2、c1和c2为以下范围内的数：0≤a1<1,0≤a2≤1,0≤b1<1,0≤b2≤1,0≤c1<1,0≤c2≤1,0![]()
其中R9各自独立地为氢或甲基，R10为C1‑C8烷基、烯丙基、缩水甘油基或C6‑C10芳基，q和r各自独立地为0至7的整数。
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