[发明专利]一种四靶双离子束溅射镀膜装置在审
| 申请号： | 201811000307.6 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN108866501A | 公开（公告）日： | 2018-11-23 |
| 发明（设计）人： | 王燕丽;王昕涛 | 申请（专利权）人： | 东莞市典雅五金制品有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/46 | 分类号： | C23C14/46;C23C14/50 |
| 代理公司： | 东莞众业知识产权代理事务所(普通合伙) 44371 | 代理人： | 何恒韬 |
| 地址： | 523000 广*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开一种四靶双离子束溅射镀膜装置，包括机架、真空镀膜室、主离子源、辅离子源、旋转靶座和可加热、旋转及前后移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述主离子源、辅离子源、旋转靶座和基片架均设于真空镀膜室内，所述主离子源的发射口对准旋转靶座，所述基片架夹设有基片，所述辅离子源的发射口对准装设于基片架上的基片，所述旋转靶座上安装有四种不同的靶材，所述旋转靶座的中心线与基片架的中心线相互叠合。本发明能提高镀膜质量，有效提高沉积效率，方便制备多种材料的多层薄膜；本发明能镀制任意材料，尤其适合蒸气压高的金属和化合物及高熔点材料的镀制，可应用于微电子、光电、超导、类金刚石等新材料研究领域。 | ||
| 搜索关键词： | 基片架 旋转靶 主离子源 离子源 溅射镀膜装置 真空镀膜室 双离子束 发射口 镀制 装设 对准 高熔点材料 新材料研究 沉积效率 多层薄膜 类金刚石 前后移动 真空镀膜 可加热 蒸气压 靶材 叠合 镀膜 制备 微电子 金属 室内 应用 | ||
【主权项】：
1.一种四靶双离子束溅射镀膜装置，其特征在于：包括机架、真空镀膜室、主离子源、辅离子源、旋转靶座和可加热、旋转及前后移动的基片架，所述真空镀膜室装设于机架上，所述主离子源、辅离子源、旋转靶座和基片架均设于真空镀膜室内，所述主离子源的发射口对准旋转靶座，所述基片架夹设有基片，所述辅离子源的发射口对准装设于基片架上的基片，所述旋转靶座上安装有四种不同的靶材，所述旋转靶座的中心线与基片架的中心线相互叠合。
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