[发明专利]一种形貌可控的三维纳米阵列形成过程的制备方法在审
| 申请号： | 201811002172.7 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN108975312A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 焦雅培;李学 | 申请（专利权）人： | 济南大学 |
| 主分类号： | C01B32/154 | 分类号： | C01B32/154;B82Y30/00;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 济南誉丰专利代理事务所(普通合伙企业) 37240 | 代理人： | 高强 |
| 地址： | 250022 山东*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种形貌可控的三维纳米阵列形成过程的制备方法，本制备方法以嵌段共聚物聚苯乙烯‑b‑聚4乙烯基吡啶（PS‑b‑P4VP）为模板，三氯甲烷为溶剂，通过溶剂退火的方法合成三维纳米阵列结构，本发明方法极为简单、易于调控、制备出中间形成过程的结构，发现了三维纳米阵列的演变过程，在多孔碳材料的制备，光子晶体，能量储存/转换装置等方面具有广阔的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 纳米阵列 三维 形貌可控 溶剂 聚苯乙烯 退火 纳米阵列结构 多孔碳材料 嵌段共聚物 乙烯基吡啶 光子晶体 能量储存 三氯甲烷 演变过程 转换装置 合成 调控 应用 发现 | ||
【主权项】：
1.一种形貌可控的三维纳米阵列的形成过程的制备方法，其特征是包括以下步骤：（1）将嵌段共聚物PS‑b‑P4VP溶解在良溶剂中，搅拌一段时间后形成稳定的稀溶液；（2）将稀溶液置于饱和的氯仿气氛中溶剂退火一定时间，使其自组装，将其置于真空烘箱中过夜挥发溶剂，再经过一段时间的加热形成最终产物。
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