[发明专利]硫化锌窗口上高附着力硬质保护薄膜的制备方法有效
| 申请号： | 201811003222.3 | 申请日： | 2018-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN109097753B | 公开（公告）日： | 2020-08-04 |
| 发明（设计）人： | 薛俊;姚细林;张天行;杨放 | 申请（专利权）人： | 湖北久之洋红外系统股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/30;C23C14/32 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 许美红;刘洋 |
| 地址： | 430223 湖北省*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种硫化锌窗口上高附着力硬质保护薄膜的制备方法。在基片上由高纯度硫化锌膜料真空热蒸发而成，并采用离子束辅助沉积，其厚度为20～60nm；在连接层的基础上由高纯度氧化锌膜料电子枪蒸发而成，并采用离子束辅助沉积，厚度为40～70nm；随即放置于有氧环境的高温退火炉中进行退火处理；采用脉冲电源非平衡反应磁控溅射技术制备，沉积高硬度HfO |
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| 搜索关键词： | 硫化锌 窗口 附着力 硬质 保护 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.硫化锌窗口上高附着力硬质保护薄膜的制备方法，其特征在于包括以下步骤：1)连接层的制备在基片上由高纯度硫化锌膜料真空热蒸发而成，并采用离子束辅助沉积，其厚度为20～60nm；2)匹配层的制备在连接层的基础上由高纯度氧化锌膜料电子枪蒸发而成，并采用离子束辅助沉积，厚度为40～70nm；随即放置于有氧环境的高温退火炉中进行退火处理；3)高硬度HfOxNy保护薄膜的制备采用脉冲电源非平衡反应磁控溅射技术制备，以N2O作为反应前驱气体，Ar作为工作气体，工作气压0.1～1Pa，电源功率2000～3000W，脉冲频率80～160Hz，沉积温度350～450℃，靶压控制点为250～295V，N2O为根据靶压自动控制，反应溅射高纯Hf靶，沉积高硬度HfOxNy保护薄膜。
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