[发明专利]一种封闭式镀膜系统

摘要

本发明公开了一种封闭式镀膜系统，包括依次线性循环设置的上料端、缓存台、加热腔、正表面镀膜腔一、加热腔、缓冲腔、正表面镀膜腔二、缓冲腔、卸载腔、缓存台、载板移载机构、硅片翻转机构、缓存台、加热腔、缓冲腔、背表面镀膜腔一、缓冲腔、加热腔、缓冲腔、背表面镀膜腔二、缓冲腔、卸载腔、缓存台及下料端。本发明具有产能高、成本投入低、硅片无卡点印痕、外界环境对硅片表面的污染少及系统通用性高等优点。

主权项

1.一种封闭式镀膜系统，其特征在于，包括：设置在封闭室内且相互平行的正表面镀膜线体及背表面镀膜线体，所述正表面镀膜线体与背表面镀膜线体的两端分别为上下料线体及周转线体；所述上下料线体包括由输送线连接的上料端及下料端，所述上料端对应所述正表面镀膜线体的进料口，所述下料端对应所述背表面镀膜线体的出料口；所述周转线体包括由输送线连接的载板移载机构及硅片翻转机构，所述载板移载机构对应所述正表面镀膜线体的出料口，所述硅片翻转机构对应所述背表面镀膜线体的进料口；所述正表面镀膜线体包括沿输送线依次设置的正表面镀膜腔一、正表面隔离腔、正表面镀膜腔二及正表面卸载腔，所述上料端对应所述正表面镀膜腔一，所述载板移载机构对应所述正表面卸载腔；所述背表面镀膜线体包括沿输送线依次设置的背表面镀膜腔一、背表面隔离腔、背表面镀膜腔二及背表面卸载腔，所述硅片翻转机构对应所述背表面镀膜腔一，所述下料端对应所述背表面卸载腔。