[发明专利]地下暗河探测方法有效
申请号: | 201811004038.0 | 申请日: | 2018-08-30 |
公开(公告)号: | CN109061762B | 公开(公告)日: | 2020-03-31 |
发明(设计)人: | 刘子金;向国兴;袁代江;武兴亮;刘骏;杨文丰 | 申请(专利权)人: | 贵州省水利水电勘测设计研究院 |
主分类号: | G01V9/00 | 分类号: | G01V9/00 |
代理公司: | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人: | 梁香美 |
地址: | 550000 贵*** | 国省代码: | 贵州;52 |
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摘要: | 本发明提供一种地下暗河探测方法,涉及水利工程领域,该方法包括:根据第一地质数据确定钻孔位置,根据所述钻孔位置进行钻孔,对所述钻孔内的地下水位进行监测,对监测结果进行处理,得到地下暗河的第二地质数据,根据所述第二地质数据布置人工探硐,通过所述人工探硐观察所述地下暗河的第三地质数据,根据所述第三地质数据确定所述地下暗河的发育情况。该方法提供了一种无地面入口通达情况下的地下隐伏暗河溶洞空间位置探测方法。 | ||
搜索关键词: | 地下 暗河 探测 方法 | ||
【主权项】:
1.一种地下暗河探测方法,其特征在于,包括:根据第一地质数据确定钻孔位置,布置勘探网;其中,所述第一地质数据包括所述地下暗河的入口的平面位置以及高程,所述地下暗河的出口的平面位置以及高程;根据所述钻孔位置进行钻孔;对所述钻孔内的地下水位进行监测;对监测结果进行处理,得到地下暗河的第二地质数据;其中,所述第二地质数据包括地下水位曲面特征以及所述地下水位曲面中高程最低的沟谷;根据所述第二地质数据布置人工探硐;通过所述人工探硐观察所述地下暗河的第三地质数据;其中,所述第三地质数据包括所述地下水位附近洞壁岩体岩溶的发育特征以及所述洞壁侧壁新近洪水冲刷痕迹的溶隙;根据所述第三地质数据确定所述地下暗河的发育情况。
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