[发明专利]气体传感器装置和用于制造气体传感器装置的方法在审

专利信息
申请号: 201811010522.4 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109425638A 公开(公告)日: 2019-03-05
发明(设计)人: A·艾费特;M·M·普拉达 申请(专利权)人: 罗伯特·博世有限公司
主分类号: G01N27/00 分类号: G01N27/00
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 72002 代理人: 侯鸣慧
地址: 德国斯*** 国省代码: 德国;DE
权利要求书: 暂无信息 说明书: 暂无信息
摘要: 发明涉及一种气体传感器装置(100)以及一种用于制造气体传感器装置的方法(100)。气体传感器装置(100)构造有:带有气体敏感层(120;220)的气体敏感的传感器元件(110;210),该气体敏感层具有金属氧化物;和保护层(130;230),该保护层部分地遮盖所述传感器元件(110;210)的所述气体敏感层(120;220);其中,所述保护层(130;230)是疏水性的和/或与所述气体敏感层(110;210)的传感器面(120;220)共同作用地起疏水作用。
搜索关键词: 气体传感器装置 气体敏感层 保护层 传感器元件 金属氧化物 传感器面 疏水作用 疏水性 遮盖 制造 敏感
【主权项】:
1.基于金属氧化物半导体的气体传感器装置(100;200),具有:带有气体敏感层(120;220)的、气体敏感的传感器元件(110;210),该气体敏感层具有金属氧化物;和保护层(130;230),该保护层部分地遮盖所述传感器元件(110;210)的所述气体敏感层(120;220);其中,所述保护层(130;230)是疏水性的和/或与所述气体敏感层(110;210)的传感器面(120;220)共同作用地起疏水作用。
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