[发明专利]芯片表面膜层缺陷的检测方法在审
| 申请号： | 201811011997.5 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109211928A | 公开（公告）日： | 2019-01-15 |
| 发明（设计）人： | 张南;陈妍;寥金枝;潘慧慧;傅超;华佑南;李晓旻 | 申请（专利权）人： | 胜科纳米(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/91 | 分类号： | G01N21/91;G01N21/64 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 朱琳 |
| 地址： | 215123 江苏省苏州市工业园*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种芯片表面膜层缺陷的检测方法，包括：提供样品，并对样品进行预处理；根据样品特征配制渗透剂，并将配置好的渗透剂置于无光处保存，所述渗透剂为纳米级别的荧光溶液或荧光气体；将所述样品放置于渗透剂中，使荧光分子充分渗入样品的缺陷内；取出样品、清洗并烘干；采用激光或者紫外光照射样品，使缺陷中的荧光分子产生荧光；观测样品并获取样品上纳米级以上的缺陷。本发明使用荧光溶液或荧光气体渗透的方式，探测电子电器封装表面的缺陷。这种探伤方法是使用纳米级别的荧光物质作为渗透剂，使荧光分子充分渗入到缺陷中去，从而可以清晰探测到芯片表面膜层中纳米级及以上尺寸的缺陷，为检测纳米级缺陷提供了技术保障。 | ||
| 搜索关键词： | 渗透剂 芯片表面 荧光分子 纳米级 荧光 膜层 纳米级别 荧光溶液 检测 渗入 探测 预处理 紫外光照射 电子电器 封装表面 观测样品 技术保障 气体渗透 样品放置 样品特征 荧光物质 探伤 烘干 无光 配制 清洗 激光 取出 保存 清晰 配置 | ||
【主权项】：
1.一种芯片表面膜层缺陷的检测方法，其特征在于，包括：提供样品，并对样品进行预处理；根据样品特征配制渗透剂，并将配置好的渗透剂置于无光处保存，所述渗透剂为纳米级别的荧光溶液或荧光气体；将所述样品放置于渗透剂中，使荧光分子充分渗入样品的缺陷内；取出样品、清洗并烘干；采用激光或者紫外光照射样品，使缺陷中的荧光分子产生荧光；观测样品并获取样品上纳米级以上的缺陷。
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