[发明专利]曝光机的光源更换系统以及曝光机在审
| 申请号： | 201811012926.7 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN108897198A | 公开（公告）日： | 2018-11-27 |
| 发明（设计）人： | 吴利峰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 430079 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种曝光机的光源更换系统以及曝光机。该光源更换系统，包括腔室，腔室包括相邻设置的工作腔室、测试腔室以及更换腔室，工作腔室内设置有第一光源，更换腔室内设置有第二光源；以及导轨，导轨设置在腔室内；其中，第一光源可沿着导轨移动至更换腔室内，第二光源可沿着导轨移动至测试腔室内，待第二光源测试通过后再沿着导轨移动至工作腔室内。本申请实施例通过在腔室内设置导轨，更换曝光灯时无需停机和降温，因此提高了生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 室内 曝光机 光源 导轨移动 光源更换 导轨 腔室 工作腔 测试腔室 工作腔室 光源测试 生产效率 相邻设置 测试腔 曝光灯 停机 申请 | ||
【主权项】：
1.一种曝光机的光源更换系统，其特征在于，包括：腔室，所述腔室包括相邻设置的工作腔室、测试腔室以及更换腔室，所述工作腔室内设置有第一光源，所述更换腔室内设置有第二光源；以及导轨，所述导轨设置在所述腔室内；其中，所述第一光源可沿着所述导轨移动至所述更换腔室内，所述第二光源可沿着所述导轨移动至所述测试腔室内，待所述第二光源测试通过后再沿着所述导轨移动至所述工作腔室内。
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