[发明专利]磁轴承控制装置及真空泵有效
| 申请号： | 201811013001.4 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109424646B | 公开（公告）日： | 2020-05-22 |
| 发明（设计）人： | 小崎纯一郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | F16C32/04 | 分类号： | F16C32/04 |
| 代理公司： | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019 | 代理人： | 寿宁;张琳 |
| 地址： | 日本京都府京都*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种磁轴承控制装置及真空泵。本发明的磁轴承控制装置包括：电流旋转成分运算部(60)，针对至少一轴的磁轴承，算出电流旋转频率成分相对于基准旋转信号的相位φ2及振幅值；位移旋转成分运算部(62)，算出位移旋转频率成分相对于基准旋转信号的相位φ1及振幅值；以及电流直流成分运算部(61)，算出由位移旋转频率成分所产生的力被由电流旋转频率成分所产生的力抵消的情况下，电流旋转频率成分的振幅与位移旋转频率成分的振幅之比I_D，并且，以相位φ2与将相位φ1加上相位值180度所得的值相等，且电流旋转频率成分的振幅值与位移旋转频率成分和比I_D之积相等的方式进行反馈控制。 | ||
| 搜索关键词： | 磁轴 控制 装置 真空泵 | ||
【主权项】：
1.一种磁轴承控制装置，其特征在于包括：第一运算部，针对磁浮支持旋转轴的控制式磁轴承装置的至少一轴的磁轴承，算出所述磁轴承的励磁电流所含的电流旋转频率成分相对于基准旋转信号的电流旋转成分相位值及电流旋转成分振幅值；第二运算部，算出所述旋转轴的位移信号所含的位移旋转频率成分相对于基准旋转信号的位移旋转成分相位值及位移旋转成分振幅值；以及第三运算部，算出由所述位移旋转频率成分所产生的力被由所述电流旋转频率成分所产生的力抵消的情况下，所述电流旋转频率成分的振幅值与所述位移旋转频率成分的振幅值之比，并且以所述电流旋转成分相位值与将所述位移旋转成分相位值加上相位值180度所得的值相等，且所述电流旋转频率成分的振幅值与所述位移旋转频率成分和所述比之积相等的方式进行反馈控制。
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