[发明专利]一种冗余图形添加方法在审
| 申请号： | 201811013506.0 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109101755A | 公开（公告）日： | 2018-12-28 |
| 发明（设计）人： | 姜立维;魏芳;张旭升 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F17/50 | 分类号： | G06F17/50 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 智云 |
| 地址： | 201203 上海市浦*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种冗余图形添加方法，包括：步骤S1：将版图按预设窗口大小进行切割；步骤S2：计算各窗口内原始版图的图形密度及有效周长；步骤S3：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的有效周长为目标，选取预设的冗余图形之结构形式进行添加；步骤S4：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的图形密度为目标，对添加的冗余图形进行调整。本发明以图形的有效周长为目标，通过选取适当结构形式的冗余图形进行添加，随后针对添加冗余图形后的图形密度进行调整，最终实现既能满足图形有效周长，又能满足图形密度的冗余图形之添加，为后续薄膜沉积或薄膜生长提供均匀的晶片反应接触表面，进而保证沉积或生长薄膜厚度的均匀性，提高器件可靠性。 | ||
| 搜索关键词： | 冗余图形 有效周长 预设 器件可靠性 薄膜沉积 薄膜生长 原始版图 均匀性 沉积 晶片 薄膜 切割 生长 保证 | ||
【主权项】：
1.一种冗余图形添加方法，其特征在于，所述冗余图形添加方法，包括：执行步骤S1：将版图按预设窗口SW大小进行切割；执行步骤S2：计算各窗口内原始版图的图形密度及有效周长；执行步骤S3：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的有效周长为目标，选取预设的冗余图形之结构形式进行添加；执行步骤S4：以添加冗余图形后之冗余图形添加窗口内的图形密度为目标，对添加的冗余图形进行调整。
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