[发明专利]X射线成像装置有效
| 申请号： | 201811014175.2 | 申请日： | 2018-08-31 |
| 公开（公告）号： | CN109425625B | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 佐野哲;白井太郎;土岐贵弘;堀场日明;森本直树;木村健士;水岛洋 | 申请（专利权）人： | 株式会社岛津制作所 |
| 主分类号： | G01N23/201 | 分类号： | G01N23/201 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种X射线成像装置。该X射线成像装置具备：X射线源、包括第一光栅和第二光栅的多个光栅、检测器、使多个光栅分别转动的光栅转动机构以及至少生成暗场像的图像处理部。图像处理部构成为生成通过将光栅在与光轴方向正交的面内配置成多个角度而拍摄到的暗场像。 | ||
| 搜索关键词： | 射线 成像 装置 | ||
【主权项】：
1.一种X射线成像装置，具备：X射线源；多个光栅，其包括用于通过从所述X射线源照射的X射线来形成自身像的第一光栅和用于与所述第一光栅的自身像发生干涉的第二光栅；检测器，其检测从所述X射线源照射的X射线；光栅转动机构，其使所述多个光栅分别在与X射线的光轴方向正交的面内转动；以及图像处理部，其根据由所述检测器检测到的X射线的强度分布来至少生成暗场像，其中，所述图像处理部构成为生成通过将所述光栅在与所述光轴方向正交的面内配置成多个角度而拍摄到的所述暗场像。
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