[发明专利]一种微纳结构的制备方法在审
| 申请号： | 201811019444.4 | 申请日： | 2018-09-03 |
| 公开（公告）号： | CN109110729A | 公开（公告）日： | 2019-01-01 |
| 发明（设计）人： | 叶鑫;胡锡亨;邵婷;伍景军;石兆华;夏汉定;李青芝;刘红婕;杨李茗;郑万国;吴卫东;黄进;王凤蕊 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | B81C1/00 | 分类号： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人： | 刘奇 |
| 地址： | 610000*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种微纳结构的制备方法，包括以下步骤：在金属基板单面部分覆盖玻璃片，得到基体；在基体覆盖有玻璃片的一面进行等离子体刻蚀，得到微纳结构；所述等离子体刻蚀用气体包括含氟气体和Ar。本发明提供的微纳结构制备方法简单，由本发明实施例可知，本发明提供的方法制备得到的微纳结构形貌较好。 | ||
| 搜索关键词： | 微纳结构 制备 等离子体刻蚀 形貌 覆盖玻璃 含氟气体 金属基板 玻璃片 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种微纳结构的制备方法，包括以下步骤：(1)在金属基板单面部分覆盖玻璃片，得到基体；(2)在所述步骤(1)得到的基体覆盖有玻璃片的一面进行等离子体刻蚀，在所述玻璃片表面形成微纳结构；所述等离子体刻蚀用气体包括含氟气体和Ar。
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