[发明专利]包括2D材料的装置在审
| 申请号： | 201811024895.7 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109427879A | 公开（公告）日： | 2019-03-05 |
| 发明（设计）人： | 朴台镇;金真范;金奉秀;李圭弼;洪亨善;黄有商 | 申请（专利权）人： | 三星电子株式会社 |
| 主分类号： | H01L29/778 | 分类号： | H01L29/778;H01L29/78 |
| 代理公司： | 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 | 代理人： | 陈宇;尹淑梅 |
| 地址： | 韩国京畿*** | 国省代码： | 韩国;KR |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 提供了包括二维材料的装置，所述装置包括：基底；第一电极，位于基底上；绝缘图案，位于基底上；第二电极，位于绝缘图案的上端上；二维(2D)材料层，位于绝缘图案的侧表面上；栅极绝缘层，覆盖2D材料层；以及栅电极，接触栅极绝缘层。绝缘图案在与基底基本垂直的方向上从第一电极延伸。2D材料层包括与绝缘图案的侧表面基本平行的至少一个原子层的2D材料。 | ||
| 搜索关键词： | 绝缘图案 基底 材料层 栅极绝缘层 第一电极 侧表面 第二电极 二维材料 基本平行 装置提供 垂直的 原子层 栅电极 上端 二维 延伸 覆盖 | ||
【主权项】：
1.一种包括二维材料的装置，所述装置包括：基底；第一电极，位于基底上；绝缘图案，位于基底上，绝缘图案在与基底基本垂直的方向上从第一电极延伸；第二电极，位于绝缘图案的上端上；二维材料层，沿着绝缘图案的侧表面，二维材料层包括与绝缘图案的侧表面基本平行的至少一个原子层的二维材料；栅极绝缘层，覆盖二维材料层；以及栅电极，接触栅极绝缘层。
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