[发明专利]基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法有效
申请号: | 201811024949.X | 申请日: | 2018-09-04 |
公开(公告)号: | CN109300892B | 公开(公告)日: | 2021-01-26 |
发明(设计)人: | 戴家赟;彭龙新;吴立枢;郭怀新;陈堂胜 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第五十五研究所 |
主分类号: | H01L27/02 | 分类号: | H01L27/02;H01L21/77 |
代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 陈鹏 |
地址: | 210016 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法,制备方法包括:在Si晶圆片正面刻蚀出PIN台面结构和上电极;在Si圆片正面旋涂粘附剂;将Si晶圆片与临时载片正面相对键合;将Si圆片衬底减薄;在Si晶圆片背面制备下电极;清洗以临时衬底为支撑的PIN结构薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底;将以临时衬底为支撑的PIN管薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底正面进行键合互连;去除临时衬底;刻蚀隔断PIN台面;将PIN结构与SiC电路互连,得到基于键合转移的超大功率限幅器MMIC。本发明将高性能Si PIN限幅器集成到MMIC中,实现高集成度、大功率的限幅器MMIC。 | ||
搜索关键词: | 基于 转移 超大 功率 限幅器 mmic 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种基于键合转移的超大功率限幅器MMIC,其特征在于,包括SiC衬底、金属键合层、Si PIN管芯层和外围电路层;所述外围电路层位于SiC衬底上,金属键合层位于外围电路层和Si PIN管芯层中间,Si PIN管芯层和金属键合层通过岛状Si衬底隔开;所述Si PIN管芯层上设置PIN上电极,PIN上电极和外围电路层互连。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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