[发明专利]基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法有效

专利信息
申请号: 201811024949.X 申请日: 2018-09-04
公开(公告)号: CN109300892B 公开(公告)日: 2021-01-26
发明(设计)人: 戴家赟;彭龙新;吴立枢;郭怀新;陈堂胜 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L21/77
代理公司: 南京理工大学专利中心 32203 代理人: 陈鹏
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开了一种基于键合转移的超大功率限幅器MMIC及制备方法,制备方法包括:在Si晶圆片正面刻蚀出PIN台面结构和上电极;在Si圆片正面旋涂粘附剂;将Si晶圆片与临时载片正面相对键合;将Si圆片衬底减薄;在Si晶圆片背面制备下电极;清洗以临时衬底为支撑的PIN结构薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底;将以临时衬底为支撑的PIN管薄层和已完成外围电路制备的SiC衬底正面进行键合互连;去除临时衬底;刻蚀隔断PIN台面;将PIN结构与SiC电路互连,得到基于键合转移的超大功率限幅器MMIC。本发明将高性能Si PIN限幅器集成到MMIC中,实现高集成度、大功率的限幅器MMIC。
搜索关键词: 基于 转移 超大 功率 限幅器 mmic 制备 方法
【主权项】:
1.一种基于键合转移的超大功率限幅器MMIC,其特征在于,包括SiC衬底、金属键合层、Si PIN管芯层和外围电路层;所述外围电路层位于SiC衬底上,金属键合层位于外围电路层和Si PIN管芯层中间,Si PIN管芯层和金属键合层通过岛状Si衬底隔开;所述Si PIN管芯层上设置PIN上电极,PIN上电极和外围电路层互连。
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