[发明专利]一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法有效
| 申请号： | 201811026247.5 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109166952B | 公开（公告）日： | 2021-06-29 |
| 发明（设计）人： | 孙逊运 | 申请（专利权）人： | 孙逊运 |
| 主分类号： | H01L33/20 | 分类号： | H01L33/20;H01L33/22;H01L33/16 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 贾颜维 |
| 地址： | 哥伦比亚，*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体制造技术领域，尤其是涉及一种图形化蓝宝石衬底及其制备方法。所述图形化蓝宝石衬底，包括蓝宝石平片和在其表面形成的图形化的含硅有机涂层。所述制备方法包括如下步骤：(a)在蓝宝石平片表面涂覆形成含硅有机涂层；(b)在含硅有机涂层表面涂覆光刻胶形成光刻胶层，光刻形成掩膜图形；(c)在光刻胶层的保护下刻蚀含硅有机涂层，将图形转移至含硅有机涂层，去除光刻胶，得到所述图形化蓝宝石衬底。本发明以图形化的含硅有机涂层替代传统的图形化蓝宝石衬底，所述含硅有机涂层的折射率比蓝宝石低，能够有效增加衬底对光的散射效果，提高LED的发光效率；并且，其硬度低于蓝宝石，增大了光刻和刻蚀工艺的宽容度，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 图形 蓝宝石 衬底 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种图形化蓝宝石衬底，其特征在于，包括蓝宝石平片和在其表面形成的图形化的含硅有机涂层。
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