[发明专利]用于离子布植的装置以及在离子布植过程产生离子的方法有效
| 申请号： | 201811026743.0 | 申请日： | 2018-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN109841470B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 徐星杓;郑迺汉;陈世芳 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/08 | 分类号： | H01J37/08;H01J37/317 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 中国台湾新竹市*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种装置包含游离腔以及至少部分设置于游离腔内的电子源装置。游离腔用以接受至少一化学物质，且提供具有游离化的化学物质的电浆。电子源装置包含至少一丝极以及阴极，丝极用以产生电子，阴极用以当来自丝极的电子打到阴极后表面时，从前表面发出二次电子。阴极的前表面朝游离腔内凸出。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子 装置 以及 过程 产生 方法 | ||
【主权项】：
1.一种装置，其特征在于，包含：一游离腔，用以接受至少一化学物质且提供一电浆，其中该电浆包含该至少一化学物质的离子；以及一电子源装置，至少部分设置于该游离腔内，其中该电子源装置包含：至少一丝极，用以产生多个电子；以及一阴极，具有一前表面以及一后表面，且用以当来自该至少一丝极的所述多个电子打到该阴极的该后表面时，从该前表面发出多个二次电子，其中该阴极的该前表面朝该游离腔内凸出。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司，未经台湾积体电路制造股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201811026743.0/，转载请声明来源钻瓜专利网。
