[发明专利]对位装置、对位系统和对位方法有效

专利信息
申请号: 201811026975.6 申请日: 2018-09-04
公开(公告)号: CN109118958B 公开(公告)日: 2021-01-29
发明(设计)人: 钱学强;陈东川;王丹;刘冰洋;马新利 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G09F9/00 分类号: G09F9/00;G01B7/00
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 代理人: 汪源;陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种对位装置、对位系统和对位方法,用于供若干个待对位结构进行对位,待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记,对位标记的材料包括介电材料,该对位装置包括:第一电极、第二电极和电容检测电路;第一电极和第二电极相对设置,第一电极朝向第二电极的一侧为第一表面,第二电极朝向第一电极的一侧为第二表面,第一表面和第二表面均具有预设形状,第一表面与第二表面正对;电容检测电路用于在对位过程中检测第一电极与第二电极之间的电容变化,并根据第一电极与第二电极之间的电容变化确定待对位结构上的对位标记是否与第一表面正对。本发明的技术方案有利于待对位结构的精准对位。
搜索关键词: 对位 装置 系统 方法
【主权项】:
1.一种对位装置,用于供若干个待对位结构进行对位,所述待对位结构上设置有具有预设形状的对位标记,所述对位标记的材料包括介电材料,其特征在于,所述对位装置包括:第一电极、第二电极和电容检测电路;所述第一电极和所述第二电极相对设置,所述第一电极朝向所述第二电极的一侧为第一表面,所述第二电极朝向所述第一电极的一侧为第二表面,所述第一表面和所述第二表面均具有所述预设形状,所述第一表面与所述第二表面正对;所述电容检测电路用于在对位过程中检测所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化,并根据所述第一电极与所述第二电极之间的电容变化确定所述待对位结构上的所述对位标记是否与所述第一表面正对。
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