[发明专利]可见及近红外光波段减反射膜及制造方法有效

专利信息
申请号: 201811032940.3 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109112479B 公开(公告)日: 2020-11-03
发明(设计)人: 刘盛浦;郭兴忠;吴兰 申请(专利权)人: 浙江博达光电有限公司
主分类号: C23C14/06 分类号: C23C14/06;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/30;G02B1/115
代理公司: 杭州中成专利事务所有限公司 33212 代理人: 金祺
地址: 311305 浙江省杭州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种可见及近红外光波段减反射膜:包括从里到外依次设置第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层。本发明还提供一种可见及近红外光波段减反射膜制造方法,包括以下步骤:1)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术在基板上依次镀制第一层至第八层;2)、再使用离子束辅助沉积真空镀膜技术且不通氧气镀制第九层MgF2层;3)、使用离子束辅助沉积真空镀膜技术镀制第十层SiO2层。本发明选用常规三种材料进行设计,极薄层剔除,更容易控制,适合批量稳定生产;增加保护层,有利于生产后道清洗。
搜索关键词: 可见 红外光 波段 减反射膜 制造 方法
【主权项】:
1.可见及近红外光波段减反射膜,其特征在于:包括从里到外依次设置第一层SiO2层、第二层Ti3O5层、第三层SiO2层、第四层Ti3O5层、第五层SiO2层、第六层Ti3O5层、第七层SiO2层、第八层Ti3O5层、第九层MgF2层和第十层SiO2层。
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