[发明专利]等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201811043173.6 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109473332B | 公开（公告）日： | 2021-04-23 |
| 发明（设计）人： | 池田太郎;小松智仁;中入淳 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H05H1/46 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种利用通过微波生成的气体等离子体在处理容器的内部对被处理体进行处理的等离子体处理装置，其包括：从微波导入部导入微波的所述处理容器的微波导入面；和多个气体排出孔，其以包围所述微波导入部的方式以规定间隔配置在从所述微波导入面和与该微波导入面邻接的上述处理容器的面的边界线起表皮深度的范围内。本发明的目的在于防止由微波的表面波导致的异常放电。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 装置 | ||
【主权项】：
1.一种使用微波将气体等离子体化，在处理容器的内部对被处理体进行处理的等离子体处理装置，其特征在于，包括：所述处理容器的微波导入面，其从微波导入部导入微波，使微波的表面波在表面传播；和多个气体排出孔，其以规定间隔配置在从所述微波导入面和与该微波导入面邻接的所述处理容器的面的边界线起规定范围内。
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