[发明专利]记录层、光信息记录介质、溅射靶有效
| 申请号： | 201811043504.6 | 申请日： | 2018-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN109493887B | 公开（公告）日： | 2020-11-17 |
| 发明（设计）人： | 田内裕基 | 申请（专利权）人： | 株式会社神户制钢所 |
| 主分类号： | G11B7/243 | 分类号： | G11B7/243;G11B7/26 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本兵库县神户市中央区脇浜海岸*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的目的在于提供一种可抑制层数的增加且满足各种要求特性的记录层及光信息记录介质与形成它们的溅射靶。本发明的记录层为通过激光光的照射来进行记录的光信息记录介质用记录层，且含有钨氧化物及钴氧化物，相对于全部金属原子而言的钴原子的含量为超过10原子％且70原子％以下。本发明的光信息记录介质包括所述记录层。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 信息 介质 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种记录层，其为通过激光光的照射来进行记录的光信息记录介质用记录层，且所述记录层的特征在于含有钨氧化物及钴氧化物，相对于全部金属原子而言的钴原子的含量为超过10原子％且70原子％以下。
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