[发明专利]基于氮化钛复合膜及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201811059410.8 申请日: 2018-09-12
公开(公告)号: CN108823544A 公开(公告)日: 2018-11-16
发明(设计)人: 杨杰平 申请(专利权)人: 杨杰平
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/32;C23C14/06;C23C14/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215000 江苏省苏州市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明揭示了一种氮化钛复合膜及其制备方法,包括由基材表面向外依次形成的金属底层、支撑层及氮化钛层,底层采用阴极电弧技术制备,支撑层采用磁控溅射技术制备,氮化钛层是采用磁控溅射和阴极电弧两种技术同时工作形成的两种不同结构膜层交错堆叠的混合物层,所述氮化钛层的厚度在1~5μm之间。本发明设计精巧,结构简单,氮化钛层采用两种不同结构膜层交替堆叠的结构。充分发挥磁控溅射膜层的高致密性、缺陷少的优点,阴极电弧制备膜层的高硬度、良好的结合力的优点,实现膜层内部结构致密,又可以保证涂层的硬度高,最终形成具有良好的结合力、高硬度、结构致密的硬质涂层。
搜索关键词: 制备 氮化钛层 膜层 磁控溅射 结构膜层 阴极电弧 氮化钛 复合膜 高硬度 结合力 支撑层 致密 磁控溅射技术 阴极电弧技术 高致密性 混合物层 基材表面 交错堆叠 交替堆叠 结构致密 金属底层 硬质涂层 保证
【主权项】:
1.基于氮化钛复合膜,其特征在于:包括由基材(4)表面向外依次形成的金属底层(1)、支撑层(2)及氮化钛层(3),所述底层(1)是采用阴极电弧技术制备,所述支撑层(2)采用磁控溅射技术制备,所述氮化钛层采用磁控溅射和阴极电弧技术制备的功能层,所述氮化钛层(3)的厚度在1~5μm之间。
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