[发明专利]一种镍钛合金支架表面处理方法有效
申请号: | 201811061988.7 | 申请日: | 2018-09-12 |
公开(公告)号: | CN109207946B | 公开(公告)日: | 2022-05-20 |
发明(设计)人: | 丁红 | 申请(专利权)人: | 杭州联芳科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/06;C23C14/58;C25D11/02;C23F17/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 310018 浙江省杭州经济技术开发区*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | 本发明属于表面工程技术和生物材料领域,尤其是一种镍钛合金支架表面处理方法。一种镍钛合金支架表面处理方法,其特征是包括如下步骤:(1)对镍钛合金支架先用水磨砂纸打磨,去除表面初始粗糙状态,然后在丙酮、去离子水中清洗、吹干获得光亮表面;(2)采用阳极氧化技术,去除镍钛合金中的镍;(3)采用磁控溅射方法,利用电声换能装置的辅助作用,在镍钛合金支架表面,磁控溅射氮化钛薄膜层。本发明的有益效果:通过间歇性声波控制,有效的增强附着在金属丝表面层附着力。 | ||
搜索关键词: | 一种 钛合金 支架 表面 处理 方法 | ||
【主权项】:
1.一种镍钛合金支架表面处理方法,其特征是包括如下步骤:(1)对镍钛合金支架先用水磨砂纸打磨,去除表面初始粗糙状态,然后在丙酮、去离子水中清洗、吹干获得光亮表面;(2)采用阳极氧化技术,去除镍钛合金中的镍;(3)采用磁控溅射方法,利用电声换能装置的辅助作用,在镍钛合金支架表面,磁控溅射氮化钛薄膜层。
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