[发明专利]等离子体化学气相沉积系统及方法有效
申请号: | 201811069708.7 | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN110894599B | 公开(公告)日: | 2022-02-11 |
发明(设计)人: | 孙元成;宋学富;杜秀蓉;张晓强;钟利强;杨晓会 | 申请(专利权)人: | 中国建筑材料科学研究总院有限公司 |
主分类号: | C23C16/513 | 分类号: | C23C16/513;C23C16/455 |
代理公司: | 北京鼎佳达知识产权代理事务所(普通合伙) 11348 | 代理人: | 王伟锋;刘铁生 |
地址: | 100024*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明是关于一种等离子体化学气相沉积系统。该沉积系统包括等离子体沉积装置,该等离子体沉积装置包括等离子体炬和沉积室。该沉积系统还包括:尾气循环装置、新鲜气体供给装置和在线监控装置,该尾气循环装置一端连接于沉积室的排气口,另一端连接于等离子体炬的进气口;该新鲜气体供给装置,连接于等离子体炬的进气口;该在线监控装置用于实时检测气体组分、温度、沉积室压力及沉积基体温度。本发明还提出了一种等离子体化学气相沉积方法。本发明方法将等离子体化学气相沉积系统排放的气体经简单处理后进行气体循环使用,克服现有技术气体消耗较大的问题,大大降低气体成本,同时保证沉积系统的稳定性。 | ||
搜索关键词: | 等离子体 化学 沉积 系统 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的