[发明专利]一种新型高透射率二氧化钒薄膜元件制备方案在审
申请号: | 201811070826.X | 申请日: | 2018-09-13 |
公开(公告)号: | CN110895357A | 公开(公告)日: | 2020-03-20 |
发明(设计)人: | 靳京城;张东平;范平 | 申请(专利权)人: | 深圳大学 |
主分类号: | G02B1/113 | 分类号: | G02B1/113;C23C14/34;C23C14/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518060 广东省深圳*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明属于物理领域,具体涉及一种二氧化钒双层膜体系及其制备方法和应用。所述双层膜体系包括二氧化钒薄膜层和氧化硅渐变折射率材料薄膜层,所述渐变折射率材料薄膜和所述二氧化钒薄膜从下至上依次堆叠。所述二氧化钒双层膜体系利用了具有渐变折射率功能的材料氧化硅,使所述二氧化钒双层膜体系元件具有超宽波段、全立体角、偏振非敏感、高透过率光谱特性。 | ||
搜索关键词: | 一种 新型 透射率 氧化 薄膜 元件 制备 方案 | ||
【主权项】:
暂无信息
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