[发明专利]光罩缺陷的清洁装置及清洁方法在审
| 申请号： | 201811076119.1 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN110899246A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 不公告发明人 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | B08B6/00 | 分类号： | B08B6/00 |
| 代理公司： | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人： | 佟婷婷 |
| 地址： | 230601 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明提供一种光罩缺陷的清洁装置及清洁方法，清洁装置用于对待处理光罩上的待清洁缺陷进行清洁，待清洁缺陷形成于待处理光罩的待处理表面上，清洁装置包括：缺陷吸附组件，缺陷吸附组件与待处理表面之间具有间距，且缺陷吸附组件基于静电感应吸附待清洁缺陷，以实现待处理光罩的清洁。本发明在半导体光罩的缺陷移除过程当中，利用非破坏性的静电吸附原理与装备进行光罩缺陷的移除，从而达到光罩清洁的目的，采用本发明的方案，不仅可以实现光罩缺陷的去除，还可以在去除过程中防止光罩的保护薄膜受到皱折或破损，同时也可以防止保护薄膜受到刮伤，还可进一步实现光罩缺陷的全面性清洁，装置简便，清洁过程简捷，清洁速度快。 | ||
| 搜索关键词： | 缺陷 清洁 装置 方法 | ||
【主权项】：
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