[发明专利]一种Y型228nm激光发射装置在审
| 申请号： | 201811077064.6 | 申请日： | 2018-09-15 |
| 公开（公告）号： | CN109142300A | 公开（公告）日： | 2019-01-04 |
| 发明（设计）人： | 李再金;李林;赵志斌;曾丽娜;曲轶;彭鸿雁 | 申请（专利权）人： | 海南师范大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 571158 *** | 国省代码： | 海南;46 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种Y型228nm激光发射装置，包括808nm半导体激光器；前后面镀808nm增透膜的聚焦镜；前面镀914nm高反膜，808nm、1064nm和1342nm增透膜，后面镀914nm高反膜，1064nm和1342nm增透膜的Nd:YVO4；前面镀入射角为15°时914nm高反膜，457nm、1064nm和1342 nm增透膜，后面镀入射角为15°时228nm高反膜，457nm增透膜的平面镜；前后面镀457nm和914nm增透膜的LBO；凹面镀457nm和914nm高反膜的平凹镜；前后面镀228nm和457nm增透膜的BBO；凹面镀457nm高反膜、228nm增透膜，平面镀228nm高反膜的平凹镜；中心波长为228nm±5nm滤光片。该装置实现了228nm激光发射。 | ||
| 搜索关键词： | 增透膜 高反膜 前后面 激光发射装置 平凹镜 入射角 凹面 激光发射 中心波长 装置实现 聚焦镜 滤光片 平面镀 平面镜 | ||
【主权项】：
1.一种Y型228nm激光发射装置，其特征在于，包括：808nm半导体激光器；808nm聚焦镜；前表面镀有914nm处反射率大于99%，808nm、1064nm和1342nm处透过率大于95%的光学膜，后表面镀有914nm处透过率大于99%，1064nm和1342nm处透过率大于95%光学膜的Nd:YVO4激光晶体；前表面镀有入射角为15°时914nm处反射率大于99%，457nm、1064nm和1342nm处透过率大于98%的光学膜，后表面镀有入射角为15°时228nm处反射率大于95%，457nm处透过率大于99%光学膜的平面镜M1；前后表面镀有457nm和914nm处透过率大于99%光学膜的LBO倍频晶体；凹面镀有457nm和914nm处反射率大于99%的光学膜，平面不镀光学膜的平凹镜M2；前后表面镀有228nm和457nm处透过率大于99%光学膜的BBO倍频晶体；凹面镀有457nm处反射率大于99%、228nm处透过率大于95%的光学膜，平面镀有228nm处透过率大于99%光学膜的平凹镜M3；中心波长228nm±5nm、半高全宽35nm±10nm和峰值透过率大于30%、截止带为350nm到1150nm的滤光片。
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