[发明专利]一种磁控溅射机制备渐变颜色膜的方法

摘要

本发明公开了一种磁控溅射机制备渐变颜色膜的方法，包括有以下步骤：S1，光学膜系设计；S2，遮挡板的设计，根据软件模拟的光学薄膜结构的厚度变化来设计遮挡板的形状；S3，真空镀膜；S4，颜色及光学性能检验，对真空镀膜后的产品进行颜色LAB值及可见光反射率曲线、可见光透过率曲线检测，测试结果合格，则可以进行量产准备；测试结果不合格，则返回步骤S1中。使用该方法制备的渐变颜色膜过渡区颜色渐变自然，产品颜色易调节，能根据用户要求制备不同色彩和视觉效果的渐变颜色膜。相比于电子束蒸发镀膜，磁控溅射机镀制的膜层结构致密，折射率稳定，膜层光学性能更稳定，因而颜色稳定性更好。

主权项

1.一种磁控溅射机制备渐变颜色膜的方法，其特征在于包括有以下步骤：S1，光学膜系设计，通过光学膜系设计软件建立模拟的光学薄膜结构；S2，遮挡板的设计，所述遮挡板设置在靶材与工件之间，根据软件模拟的光学薄膜结构的厚度变化来设计遮挡板的形状；S3，真空镀膜，通过磁控溅射机溅射靶材在工件上形成光学薄膜结构；S4，颜色及光学性能检验，对真空镀膜后的产品进行颜色LAB值及可见光反射率曲线、可见光透过率曲线检测，测试结果合格，则可以进行量产准备；测试结果不合格，则返回步骤S1中；步骤S1包括有以下步骤：S11，基础膜系设计，根据工件的渐变颜色及饱和度的需求，进行工件某一端点位置的基础膜系设计，并得到该位置所需的光学薄膜结构的各膜层的厚度值；S12，渐变区域不同位置膜系设计，根据工件的渐变颜色及饱和度的需求，推算不同渐变区域的光学薄膜结构的各膜层的厚度值，不同渐变区域之间设置有间距，通过推算方法得到整个工件的渐变膜系设计反射率或透过率光谱图；步骤S2包括有以下步骤：S21，遮挡靶材的确认，根据步骤S1中的光学膜系设计的结果，确认哪些膜层的厚度在渐变区域是变化的，则在此膜层的靶材与工件之间，沿着溅射靶材的竖直方向设置一组遮挡板，如果哪些膜层在整个渐变区域膜层厚度保持不变，则该膜层不需要设置相应的遮挡板；遮挡板设置在1种或者1种以上的靶材与工件之间；S22，遮挡板形状的确认与调整，首先通过磁控溅射机自带的膜层厚度与遮挡板长度的关系曲线，固定各膜层内厚度最大的膜层位置的遮挡板长度，然后通过步骤S1中的光学膜系设计的结果，计算出其中厚度最小的膜层位置的厚度，与其中厚度最大的膜层位置的厚度比较，计算两位置的膜层厚度差，通过磁控溅射设备自带的膜层厚度与遮挡板长度的关系曲线，找出膜层厚度最小处的遮挡长度，沿着遮挡板最长与最短的连线做递增或递减变化，或者维持不变。