[发明专利]蚀刻液组合物有效

专利信息
申请号: 201811083417.3 申请日: 2018-09-14
公开(公告)号: CN109518189B 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 朴相㴍;吴陈㙓;金益俊;金希泰;尹景湖;金世训 申请(专利权)人: 易安爱富科技有限公司
主分类号: C23F1/44 分类号: C23F1/44
代理公司: 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 代理人: 魏彦
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种包含过氧化氢、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂及双氧水稳定剂的蚀刻液组合物,通过不包含氟系化合物,且即使不使用pH值调节剂,也形成4以上的高pH值,从而在铜膜及含钼膜的蚀刻工序中,防止玻璃基板及半导体结构物被蚀刻,使在蚀刻工序中可能产生的不良达到最小。
搜索关键词: 蚀刻 组合
【主权项】:
1.一种蚀刻液组合物,其特征在于,包含过氧化氢、蚀刻抑制剂、螯合剂、蚀刻添加剂及双氧水稳定剂,所述蚀刻添加剂,相对于组合物的总重量,包含0.01至5重量%的具有一个以上的羧基并且不含氮原子的有机酸和2至10重量%的一种以上的无机铵盐,相对于组合物的总重量,所述双氧水稳定剂为0.01至5重量%,所述蚀刻液组合物的pH值为4至6。
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