[发明专利]一种像差控制的线激光能量匀化系统在审

专利信息
申请号: 201811088378.6 申请日: 2018-09-18
公开(公告)号: CN109143594A 公开(公告)日: 2019-01-04
发明(设计)人: 金少峰;杨灏;王刚奎 申请(专利权)人: 深圳市深视智能科技有限公司
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 深圳市创富知识产权代理有限公司 44367 代理人: 曾敬
地址: 518000 广东省深圳市宝安区前*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及激光测量技术领域,提供的一种像差控制的线激光能量匀化系统,包括:壳体,其为框架结构;壳体内依次开设有相通的容纳槽、空腔以及凹槽;线激光机构,设置于容纳槽内,用于发射测量线激光;第一柱面镜,设置于容纳槽内,用于产生线光线;第二柱面镜,设置于凹槽内,用于调整光线密度分布;第二柱面镜与凹槽的内壁抵接;其中,点激光机构发射出的点激光依次穿过第一柱面镜以及第二柱面镜。通过第一柱面镜以及第二柱面镜的透镜组合调整光线密度分布,消除了激光测量过程中的阴影测试错误。
搜索关键词: 柱面镜 线激光 容纳槽 密度分布 像差控制 匀化系统 激光测量技术 发射测量 激光测量 激光机构 框架结构 透镜组合 阴影测试 抵接 壳体 空腔 内壁 激光 相通 穿过 体内 发射
【主权项】:
1.一种像差控制的线激光能量匀化系统,其特征在于,包括:壳体(1),其为框架结构;所述壳体(1)内依次开设有相通的容纳槽(12)、空腔(11)以及凹槽(13);线激光机构(2),设置于所述容纳槽(12)内,用于发射测量线激光;第一柱面镜(25),设置于所述容纳槽(12)内,用于产生线光线;第二柱面镜(3),设置于所述凹槽(13)内,用于调整光线密度分布;所述第二柱面镜(3)与所述凹槽(13)的内壁抵接;其中,所述线激光机构(2)发射出的点激光依次穿过所述第一柱面镜(25)以及所述第二柱面镜(3)。
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